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金融界2025年5月21日消息，国家知识产权局信息显示，武汉光谷卓越科技股份有限公司申请一项名为“基于线扫描三维的路面最大积水断面面积检测方法”的专利，公开号CN120008519A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本申请涉及路面检测技术领域，提供一种基于线扫描三维的路面最大积水断面面积检测方法。所述方法包括：基于待测路面的三维横断面高程数据对待测路面进行三维建模，得到待测路面的断面拼接轮廓；基于待测路面上车辙辙槽在车道范围内的分布特征，提取断面拼接轮廓中的关键点；基于关键点和断面拼接轮廓，确定断面拼接轮廓的每一横断面轮廓的最大积水断面区域，利用积分计算最大积水断面区域的面积，得到横断面轮廓的最大积水断面面积。
天眼查资料显示，武汉光谷卓越科技股份有限公司，成立于2001年，位于武汉市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本7700万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉光谷卓越科技股份有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目402次，财产线索方面有商标信息7条，专利信息117条，此外企业还拥有行政许可13个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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