北京
金融界 2025 年 5 月 16 日消息，国家知识产权局信息显示，武汉市太紫微光电科技有限公司申请一项名为“一种基于六芳基联咪唑的紫外正性线型光刻胶及其制备和使用方法”的专利，公开号 CN119987138A，申请日期为 2025 年 2 月。
专利摘要显示，本申请属于微电子加工材料技术领域，更具体地，涉及一种基于六芳基联咪唑的紫外正性线型光刻胶及其制备和使用方法。本发明以六芳基联咪唑为感光点，首先对低聚物二元醇、二异氰酸酯和二羟基官能化的六芳基联咪唑进行聚合制备出一类线型紫外光刻胶，随后在溶液中加入自由基淬灭剂，得到光可调控的线型聚氨酯光刻胶。利用该光刻胶进行光刻时，在紫外光的照射下，线型光刻胶中的六芳基联咪唑单元中两个咪唑环之间的动态 C‑N 共价键响应光照裂解形成低聚物；同时，自由基淬灭剂与曝光解聚后形成的六芳基联咪唑单体结合抑制聚合物的复原，从而使得经紫外光曝光的区域能够溶解于显影液中，以此获得高分辨的目标正性图案。
天眼查资料显示，武汉市太紫微光电科技有限公司，成立于2024年，位于武汉市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本200万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉市太紫微光电科技有限公司专利信息3条。
本文源自：金融界
作者：情报员
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