北京
金融界2025年5月12日消息，国家知识产权局信息显示，广州林恩静电科学技术应用有限公司申请一项名为“一种半导体光刻用光罩在生产制程中的静电敏感度评测方法”的专利，公开号CN119959666A，申请日期为2025年2月。
专利摘要显示，本发明涉及微电子器件受到静电影响的敏感度评测技术领域，具体为一种半导体光刻用光罩在生产制程中的静电敏感度评测方法，包括评测光罩静电敏感度之ESD情形的方法和评测光罩静电敏感度之EFM情形的方法，该发明通过本发明提供的光罩EFM敏感度评测方法得到的数据，可填补光罩正产企业与半导体晶圆厂等使用企业在对光罩在其生产制程中进行静电防护时仅关注ESD而忽略EFM的盲区，更重要的是光罩发生了EFM后，会显著提高其ESD敏感程度，进而促使光罩生产企业与半导体晶圆厂等使用企业健全其生产制程中的光罩静电防护程序。
天眼查资料显示，广州林恩静电科学技术应用有限公司，成立于2016年，位于广州市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本200万人民币。通过天眼查大数据分析，广州林恩静电科学技术应用有限公司财产线索方面有商标信息5条，专利信息7条，此外企业还拥有行政许可4个。
本文源自金融界
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