北京
金融界2025年5月9日消息，国家知识产权局信息显示，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司申请一项名为“一种掩模图形确定方法、设备、介质及产品”的专利，公开号CN119937235A，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，本申请公开了一种掩模图形确定方法、设备、介质及产品，应用于半导体技术领域。本申请提供的掩模图形确定方法，是基于多个第二采样点确定目标掩模图形的，而第二采样点是基于第一光刻图形与第一刻蚀图形在第一采样点对应位置处的第一刻蚀偏差数据，对所述第一采样点进行刻蚀偏差修正得到的。而第一采样点能够表征所述第一目标刻蚀图形的图形轮廓，所以本申请通过对多个采样点分别进行修正的方式，能够较为准确地修正曲线轮廓的刻蚀偏差，所以，本申请实施例能够高效地完成曲线图形对应的掩模图形的设计。
天眼查资料显示，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司，成立于2014年，位于北京市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本36401.6097万人民币。通过天眼查大数据分析，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目24次，财产线索方面有商标信息154条，专利信息291条，此外企业还拥有行政许可18个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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