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金融界2025年5月8日消息，国家知识产权局信息显示，恩特格里斯公司申请一项名为“用于极紫外光刻的组合物和相关方法”的专利，公开号CN119948039A，申请日期为2023年8月。
专利摘要显示，本发明提供单取代硅醇锡化合物和相关方法。一种方法包括使单取代锡(IV)化合物与硅醇化物反应物接触以形成单取代硅醇锡化合物。一种组合物包括单取代硅醇锡化合物。
本文源自：金融界
作者：情报员
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