北京
金融界2025年5月6日消息，国家知识产权局信息显示，广东中图半导体科技股份有限公司申请一项名为“待外延生长的衬底处理方法、外延生长方法及外延结构”的专利，公开号CN119913612A，申请日期为2025年1月。
专利摘要显示，本发明涉及待外延生长的衬底处理方法、外延生长方法及外延结构，其中，待外延生长的衬底处理方法，包括以下步骤：S100：提供原始衬底，通过对衬底背部进行研磨使原始衬底内的应力均匀分布，并进行表面修复，得到第一处理衬底；S200：提供单层石墨烯，并将单层石墨烯转移至第一处理衬底表面，得到第二处理衬底；S300：提供含有外延层促进成核纳米线的液体，并将其均匀涂抹在第二处理衬底上，烘干后得到待外延生长的衬底。
天眼查资料显示，广东中图半导体科技股份有限公司，成立于2013年，位于东莞市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本42601.8559万人民币。通过天眼查大数据分析，广东中图半导体科技股份有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目25次，财产线索方面有商标信息8条，专利信息130条，此外企业还拥有行政许可97个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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