北京
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金融界2025年5月5日消息，国家知识产权局信息显示，AP系统股份有限公司申请一项名为“沉积设备和沉积方法”的专利，公开号CN119923490A，申请日期为2023年9月。
专利摘要显示，本发明涉及一种使用线性沉积源的沉积设备和沉积方法，其中该沉积设备可包括：支撑基板的基板支撑器；线性沉积源，包括在与基板交叉的第一轴向方向上平行配置且向基板喷射源气体和反应气体的线性源气体喷嘴部件和线性反应气体喷嘴部件；用于在与第一轴向方向交叉的第二轴向方向上移动基板支撑器的驱动部件；用于检测基板支撑器在第二轴向方向上的位置的位置检测部件；以及根据基板支撑器在第二轴向方向上的检测到的位置，个别地控制线性源气体喷嘴部件和线性反应气体喷嘴部件的气体注入的注入控制部件。
本文源自金融界
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