北京
金融界 2025 年 5 月 2 日消息，国家知识产权局信息显示，上海积塔半导体有限公司取得一项名为“ALD 前驱体储存装置”的专利，授权公告号 CN 222795720 U，申请日期为 2024 年 7 月。
专利摘要显示，本实用新型提供一种 ALD 前驱体储存装置，包括容器主体及弹性机构，弹性机构设置于容器主体的内部下方，弹性机构包括可伸缩弹性装置和活塞装置；可伸缩弹性装置的一端固定在容器主体的内部底部，另一端连接活塞装置；活塞装置将容器主体内部空间分隔为沿上下方向的两个空间，且使容置弹性机构的空间为密封空间。活塞装置可随可伸缩弹性装置的伸长和压缩在容器主体内部上下移动，确保反应物气体始终处于饱和蒸气压的状态，可有效解决在 ALD 连续反应时前驱体的饱和蒸气压不足的问题，进而解决由此导致的相同的反应时间内形成的薄膜厚度偏薄，均匀性较差，进而导致 WAT 失效以及集成电路性能受到影响的问题。
天眼查资料显示，上海积塔半导体有限公司，成立于2017年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1690740.3918万人民币。通过天眼查大数据分析，上海积塔半导体有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目1793次，财产线索方面有商标信息9条，专利信息1042条，此外企业还拥有行政许可191个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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