北京
分享至
金融界 2025 年 4 月 26 日消息，国家知识产权局信息显示，华芯程（杭州）科技有限公司申请一项名为“掩膜成像方法、装置、存储介质及电子设备”的专利，公开号 CN119861537A，申请日期为 2025 年 3 月。
专利摘要显示，本申请公开了一种掩膜成像方法、装置、存储介质及电子设备，其中，该掩膜成像方法包括获取掩膜的几何形状和特征信息，掩膜包括至少两层介质；基于特征信息，使用传输矩阵法计算每层介质的传输矩阵，以得到掩膜的总传输矩阵；基于总传输矩阵对初始入射场进行修正，得到目标入射场；根据目标入射场，计算掩膜每个点的衍射近场强度；根据衍射近场强度和几何形状，通过预设成像方法生成掩膜的空间像。本方案可以提高掩膜成像的精度。
天眼查资料显示，华芯程（杭州）科技有限公司，成立于2021年，位于杭州市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本849.229773万人民币。通过天眼查大数据分析，华芯程（杭州）科技有限公司共对外投资了4家企业，财产线索方面有商标信息65条，专利信息92条，此外企业还拥有行政许可2个。
本文源自：金融界
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
