北京
金融界2025年4月24日消息，国家知识产权局信息显示，上海积塔半导体有限公司申请一项名为“添加亚分辨率辅助图形的方法”的专利，公开号CN119805881A，申请日期为2025年2月。
专利摘要显示，本发明提供一种添加亚分辨率辅助图形的方法，包括如下步骤：获取目标图形，目标图形包括多个通孔图形；对目标图形进行光学模拟，以获得每个通孔图形的最大光强；基于多个通孔图形的最大光强获得多个通孔图形的亚分辨率辅助图形添加序列；基于多个通孔图形的亚分辨率辅助图形添加序列依次对多个通孔图形分别添加亚分辨率辅助图形。通过获得多个通孔图形的最大光强，根据最大光强获得多个通孔图形的亚分辨率辅助图形添加序列，避免了添加亚分辨率辅助图形对通孔图形的光学影响，提高了光学分辨率。
天眼查资料显示，上海积塔半导体有限公司，成立于2017年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1690740.3918万人民币。通过天眼查大数据分析，上海积塔半导体有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目1791次，财产线索方面有商标信息9条，专利信息1018条，此外企业还拥有行政许可191个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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