北京
金融界2025年4月9日消息，国家知识产权局信息显示，珠海格力电子元器件有限公司、珠海格力电器股份有限公司申请一项名为“一种CVD反应腔体的清洁方法”的专利，公开号CN 119776798 A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本发明涉及半导体制备技术领域，具体涉及一种CVD反应腔体的清洁方法。清洁方法按时间顺序依次进行第一清洁阶段、第二清洁阶段和第三清洁阶段，第一清洁阶段将C2F6和O2的第一混合气体通入反应腔体，使第一混合气体对反应腔体内壁面的沉膜进行反应清洁；第二清洁阶段将NF3和O2的第二混合气体通入反应腔体，使第二混合气体对第一清洁阶段后的沉膜进行反应清洁；第三清洁阶段将C2F6、NF3、O2和He的第三混合气体通入反应腔体，使第三混合气体对第二清洁阶段后的沉膜进行反应清洁，第一混合气体与沉膜的反应速率大于第二混合气体与沉膜的反应速率，第三混合气体为过量反应，该清洁方法能够高效地清洁CVD反应腔体内的沉膜。
天眼查资料显示，珠海格力电子元器件有限公司，成立于2022年，位于珠海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本10000万人民币，实缴资本10000万人民币。通过天眼查大数据分析，珠海格力电子元器件有限公司参与招投标项目29次，专利信息127条，此外企业还拥有行政许可108个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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