北京
金融界2025年4月4日消息，国家知识产权局信息显示，新开源（焦作）高分子材料有限公司取得一项名为“一种高纯度N-乙烯基吡咯烷酮的真空提纯装置”的专利，授权公告号CN 222709003 U，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，本实用新型属于真空提纯热量调节技术领域，尤其涉及一种高纯度N‑乙烯基吡咯烷酮的真空提纯装置，包括作业台，所述作业台设有空腔，所述空腔内设有调节装置，所述调节装置包括转杆，所述作业台的顶部固定连接有真空泵，所述作业台的顶部固定连接有导热板，所述导热板的顶部放置有蒸馏罐，所述作业台的顶部固定连接有制冷机和多个收集罐，所述空腔的内侧壁固定连接有滑动柱，所述空腔的内侧壁固定连接有电机，所述转杆固定连接在电机的驱动端，所述转杆的末端贯穿滑动柱并固定连接有凸轮。本实用新型通过电机带动转杆转动，转杆带动凸轮转动，再通过凸轮改变连接板和加热元件的位置，从而控制传热距离，来进行温度控制调节。
天眼查资料显示，新开源（焦作）高分子材料有限公司，成立于2020年，位于焦作市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本10000万人民币，实缴资本10000万人民币。通过天眼查大数据分析，新开源（焦作）高分子材料有限公司参与招投标项目8次，专利信息11条，此外企业还拥有行政许可171个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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