北京
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金融界 2025 年 4 月 2 日消息，国家知识产权局信息显示，ASM IP 私人控股有限公司申请一项名为“用于在衬底上形成图案的方法”的专利，公开号 CN 119739006 A，申请日期为 2024 年 9 月。
专利摘要显示，公开了一种在衬底上形成图案的方法。该方法包括：提供具有曝光室的极紫外(EUV)光刻系统，向曝光室提供衬底，衬底包括可图案化层，可图案化层包括光敏表面终端；以及将衬底暴露于 EUV 辐射，同时将可图案化层暴露于反应性气体，从而在可图案化层上形成包括曝光区域和未曝光区域的图案，未曝光区域包括光敏表面终端，曝光区域包括改变的表面终端。
本文源自：金融界
作者：情报员
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