北京
金融界2025年2月12日消息，国家知识产权局信息显示，森一量子科技（厦门）有限公司申请一项名为“一种原位测量、调控液相外延过程晶圆翘曲变化的方法”的专利，公开号CN 119392361 A，申请日期为2024年10月。
专利摘要显示，本发明公开了一种原位测量、调控液相外延过程晶圆翘曲变化的方法，在液相外延生长稀土铁石榴石单晶薄膜阶段开启晶圆翘曲原位测量单元，用于实时测量炉体中晶圆的翘曲度；依据所述晶圆翘曲原位测量单元上光斑的位置变化，动态调整晶圆的旋转速度直至生长结束；所述动态调整包括快速、慢速两个阶段变化。本发明的技术方案实现对晶体生长过程的原位监控并且通过调整转速能够调节晶体生长的翘曲情况，有效改善了衬底与设备差异所带来的晶圆切割良率的波动。根据晶圆翘曲的变化，在生长过程中不断调整旋转速度，从而将翘曲控制在一定范围内，减少了晶圆开裂的问题，提升了产品良率，有助于生长大尺寸法拉第旋光片晶圆。
天眼查资料显示，森一量子科技（厦门）有限公司，成立于2022年，位于厦门市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本4792.5万人民币，实缴资本2197万人民币。通过天眼查大数据分析，森一量子科技（厦门）有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目10次，知识产权方面有商标信息1条，专利信息7条，此外企业还拥有行政许可2个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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