北京
金融界2025年1月15日消息，国家知识产权局信息显示，昆山书豪仪器科技有限公司申请一项名为“一种基于溅射坑形貌的辉光放电深度谱分析方法”的专利，公开号CN 119290850 A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本发明公开了一种基于溅射坑形貌的辉光放电深度谱分析方法。该方法包括：采用辉光放电光谱仪按照预设工作条件，对待测样品进行深度谱测量，获得实际测量深度谱；对进行深度谱测量后的待测样品进行形貌检测，获得待测样品的溅射坑形貌；根据待测样品的溅射坑形貌和实际测量深度谱，确定待测样品的实际膜层结构。本发明提供的方法，定量分析了因溅射坑不平整对辉光放电深度谱分析产生的畸变影响，简化了深度谱分析流程，优化了需多次实验尽量寻找平整溅射坑来减少误差的工序，提供了一种适用于任意形状溅射坑形貌的辉光放电光谱仪深度谱定量分析方法。
天眼查资料显示，昆山书豪仪器科技有限公司，成立于2012年，位于苏州市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本5000万人民币，实缴资本1260万人民币。通过天眼查大数据分析，昆山书豪仪器科技有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目92次，知识产权方面有商标信息9条，专利信息94条，此外企业还拥有行政许可4个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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