北京
分享至
金融界2025年1月14日消息，国家知识产权局信息显示，科磊股份有限公司取得一项名为“用于投影成像系统中的临场式光化学清洁的光的光学路径耦合的系统及方法”的专利，授权公告号 CN 117098984 B，申请日期为 2022年4月。
本文源自：金融界
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
