截至12月20日收盘,光刻机概念上涨3.63%,位居概念板块涨幅第5,板块内,33股上涨,茂莱光学、富乐德、新莱应材等涨幅居前,分别上涨11.63%、8.77%、7.69%。
今日涨跌幅居前的概念板块
资金面上看,今日光刻机概念板块获主力资金净流入5.92亿元,其中,25股获主力资金净流入,7股主力资金净流入超3000万元,净流入资金居首的是晶方科技,今日主力资金净流入1.50亿元,净流入资金居前的还有张江高科、新莱应材、茂莱光学等,主力资金分别净流入6780.73万元、6096.00万元、5820.02万元。
资金流入比率方面,百傲化学、新莱应材、赛微电子等流入比率居前,主力资金净流入率分别为9.44%、9.35%、8.01%。(数据宝)
光刻机概念资金流入榜
注:本文系新闻报道,不构成投资建议,股市有风险,投资需谨慎。
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