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金融界2024年12月17日消息，国家知识产权局信息显示，杭州电子科技大学（天台）数字产业研究院有限公司申请一项名为“一种真空管道泄漏快速修补方法”的专利，公开号CN 119123228 A，申请日期为2024年10月。
专利摘要显示，本发明公开一种真空管道泄漏快速修补方法，包括如下步骤：S1、机器人安装，S2、输送管连接，S3、真空管道泄漏检测，S4、真空管道泄漏点修补。本发明的修补方法步骤简单，不仅可以在整个管道系统不关闭的情况下对真空管道进行泄漏检测，而且可以精确找到真空管道的泄漏位置，并可以根据泄漏点的噪声大小和压力大小判断泄漏点的大小，对泄漏点进行快速修补，减小真空管道的破损，降低人工检测的劳动强度。
本文源自：金融界
作者：情报员
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