北京
金融界2024年12月16日消息，国家知识产权局信息显示，中国电子系统工程第二建设有限公司申请一项名为“一种用于罐体的风旋流干湿CIP清洗方法”的专利，公开号CN 119114554 A，申请日期为2024年10月。
专利摘要显示，本发明公开了一种用于罐体的风旋流干湿CIP清洗方法，所述清洗方法中，在干式清洗时，待清洗罐体通过罐体顶部的内伸式进气口和侧壁的切向进气口通入压缩空气，进行压缩空气干清洗；其中，所述罐体顶部的通孔处伸入有弯管，弯管形成罐体顶部的内伸式进气口，弯管在罐体内朝向人孔一侧弯曲，且弯曲角度为95～105°；在罐体侧壁上开有相互对称的两个切向进气口，每个切向进气口均与同罐体呈切向设置的进气管连通，所述进气管包括与切向进气口连接且呈喇叭结构的渐扩段，沿气体流动方向，渐扩段的内径逐步增大，在切向进气口处设有使切向进入的气流呈贴壁流动的气流挡板。本发明方法将风旋流干式清洗与传统CIP湿式清洗结合起来，并且在干式清洗过程中，通过对待清洗罐体的进气方式进行调整，能够使每一步的干清洗都高效、彻底，不存在清洗死区，并且还能大幅降低湿式清洗过程的时间和耗水量，进而使废水量大幅减少。
本文源自：金融界
作者：情报员
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