北京
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金融界12月5日消息，有投资者在互动平台向芯碁微装提问：请问公司的光刻机设备，未来会达到14纳米的精度吗？
公司回答表示：公司是基于DMD（数字微镜器件）的直写光刻技术，DMD芯片的精度决定了产品精度，提升产品精度上首选方案是采用精度更高的DMD，目前市场能够量产的DMD最高精度在5.4μm，这种精度的产能已远超传统曝光机。如果要更精细的线宽，就要采用微透镜阵列（MLA）来升级，这种方式对于直写光刻技术升级和改造发展贡献会很大，量产后产能效率将大幅提升，产业应用范围将非常广阔。
本文源自：金融界
作者：公告君
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