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金融界2024年11月27日消息，国家知识产权局信息显示，迪盛微(江苏)装备科技有限公司申请一项名为“种光刻机构曝光装置及控制方法”的专利，公开号CN 119024649 A，申请日期为2024年7月。
专利摘要显示，本申请提供了一种光刻机构、曝光装置及控制方法，光刻机构：蚀刻组件，用于发出蚀刻用的激光；视觉组件，用于获取待蚀刻工件的图案信息；镜片箱，与蚀刻组件和视觉组件均固定连接，镜片箱形成有蚀刻组件与待蚀刻工件之间的第一导光通道，以及待蚀刻工件与视觉组件之间的第二导光通道，通过光刻机构完成视觉定位和蚀刻可以避免误差叠加，即使存在误差，但通过光刻机构进行完成定位和蚀刻，误差的计算简单并且针对出现的误差，容易对误差进行补偿。
本文源自：金融界
作者：情报员
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