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金融界2024年10月23日消息，国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司申请一项名为“一种歧管阀组结构”的专利，公开号 CN 118793812 A，申请日期为 2024 年 8 月。
专利摘要显示，本发明涉及半导体设备制造技术领域，更具体地说，涉及一种歧管阀组结构。本发明提供了一种歧管阀组结构，安装于多个腔体之间，包括阀体以及若干阀门：所述阀体的内部设置有多个管路通道；所述阀体的底部设置有多个穿腔管路，所述穿腔管路自阀体下方穿通并与管路通道连接；所述穿腔管路和管路通道均根据腔体的位置进行对称分布；所述阀门，设置在穿腔管路与管路通道之间；所述多个穿腔管路用于通入不同的工艺气体，并通过阀门进行切换与通断操作，以实现工艺过程中工艺气体的切换进入腔体或者返回至分流管路。本发明不仅能够实现分流管路与腔体之间的有效切换，还兼顾了调节晶圆薄膜边缘及中央形貌的需求。
本文源自金融界
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