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金融界2024年9月18日消息，天眼查知识产权信息显示，无锡迪思微电子有限公司取得一项名为“光掩膜版及其制备方法“，授权公告号CN117850157B，申请日期为2024年1月。
专利摘要显示，本申请涉及一种光掩膜版及其制备方法，光掩膜版包括：基板结构；所述基板结构包括透明基板和透明液体，所述透明基板具有封闭的中空腔；所述透明液体填充于所述中空腔内；所述透明液体用于透过投射在所述透明基板上的光线；以及掩膜图案，设置于所述基板结构的一侧。如此，在光刻时，光刻机的光线会透过透明基板中的透明液体，相较于传统技术，改变了光刻机的光线的传播路径中的介质，从而改善光刻工艺中的因子参数，进而有利于提高光刻分辨率，达到提升光刻精度和解析度的目的。
本文源自：金融界
作者：情报员
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