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集成电路布图设计是知识产权体系中的一分子。集成电路指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。通俗地说，它就是确定用以制造集成电路的电子元件在一个传导材料中的几何图形排列和连接的布局设计。
集成电路布图设计实质上是一种图形设计，但它并非是工业品外观设计，不能适用专利法保护；它既不是一定思想的表达形式，也不具备艺术性，因而不在作品之列，不能采用版权法加以保护。
由于现有专利法、版权法对集成电路布图设计无法给予有效的保护，世界许多国家就通过单行立法，确认布图设计的专有权，即给予其他知识产权保护，我国也制定了《集成电路布图设计保护条例》及实施细则。
1989年，世界知识产权组织通过了《关于集成电路知识产权的华盛顿条约》，我国于1990年签署了该条约。我国的《集成电路布图设计保护条例》于2001年3月28日由国务院通过，自2001年10月1日生效。该条例旨在保护布图设计权利人的合法权益，鼓励布图设计创新，推动集成电路产业发展。根据该条例，集成电路布图设计是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。
集成电路布图设计权的获取流程（中国）
一、集成电路布图设计专有权经国家知识产权局登记产生。要想获得布图设计专有权，需向国家知识产权局提出登记申请。
1.申请文件不合格，不予受理。
2.申请文件存在形式缺陷的，审查员发出受理通知书和补正通知书，申请人应按补正通知书上的要求，在规定期限内提交补正材料。
二、申请人提交的申请文件经审查后，未发现形式缺陷的，审查员发出受理通知书和缴费通知书。
三、在收到缴费通知书之后，申请人方可缴费，其中登记费为2000元，印花税为5元，均不可减缓。
四、登记申请经初步审查没有发现驳回理由的，国家知识产权局应当颁发布图设计登记证书，并在《中国知识产权报》和其官方网站上予以公告。
五、集成电路布图设计专有权保护期为10年，起算日是布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日，以较前日期为准。
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