河南
离子束溅射（IBS）是高质量薄膜制备技术 我国高端设备生产实力不足
离子束溅射（IBS），也称为离子束沉积（IBD），是一种薄膜制备工艺，属于物理气相沉积（PVD）技术。离子束溅射是在真空状态下，利用离子源产生高能离子束，轰击靶材表面溅射得到粒子，粒子沉积在衬底表面从而形成薄膜。离子束溅射设备主要由离子源、真空系统、控制系统、电源系统等组成。离子束溅射成本较高，主要应用于特殊薄膜制备领域。
离子源产生的高能离子具有等能特征，且高度准直，与其他物理气相沉积技术相比，离子束溅射在薄膜厚度控制方面精准度高，并可以独立控制各项溅射参数，能够在较低温度条件下溅射成膜，可以制造极致密的高质量薄膜，且对环境污染小。目前，离子束溅射已经成为重要的薄膜制备技术，应用在极高质量薄膜制造领域竞争优势明显，但离子束溅射设备结构复杂，使用成本较高，此外还有一个重要缺点是沉积速率较低。
根据新思界产业研究中心发布的《2022-2027年中国离子束溅射（IBS）行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，离子束溅射可用来制备金属、氧化物、氮化物、电介质等多种薄膜材料，特别适用于制备多组分金属氧化物薄膜，可以广泛应用在半导体、导体、超导体、磁性材料等薄膜制备领域，下游可应用范围广，包括通信、电子、能源、仪器仪表、工业设备、新材料等众多行业。光通信是离子束溅射的重要下游市场，可用来制备高性能、低损耗滤光膜等产品。
柔性基底可以用在新型显示领域，用来制造可弯曲、可卷绕、可折叠屏幕，应用在智能手机、可穿戴设备、电视、广告屏等产品生产中。在柔性基底材料上镀膜，对镀膜设备的性能要求高，离子束溅射设备是柔性基底镀膜的核心装备。随着平板显示技术不断进步、智能手机产品不断迭代，可弯曲、可折叠屏幕需求日益旺盛，离子束溅射设备迎来发展机遇。
新思界行业分析人士表示，在全球范围内，离子束溅射设备生产商主要集中在美国、日本等国家，代表性企业有美国Denton、美国Veeco Instruments、美国Adnano-tek、日本昭和真空等。全球离子束溅射设备市场主要被美国、日本企业所垄断，在我国电子信息产业不断发展壮大推动下，国内逐渐具备离子束溅射设备生产能力，但目前高端产品生产实力依然不足，需求对外依赖度大。我国离子束溅射设备生产商主要有杰莱特（苏州）精密仪器有限公司、北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司等。
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