如何检查版图中的单个contact或者via(V0.1)？

最近有同学反映上一个检查单孔的DRC rule不够全面，如果两个孔距离太远是不是也应该查出来呢？

所以本次在前一次的DRC rule文件中添加了一个检查，当两个孔距离大于某个阈值时也报单孔错误。

更新说明

首先，本次内容是上一版检查单个contact或者via的DRC rule的更新，所以有不懂的同学可以先去历史记录里面找到最初的版本，然后再来看本次更新的内容。

搜索版图中连接M1和M2的via或者连接AA、POLY和M1的contact，如果该范围内确实只有一个孔，那么就在DRC中提示出该位置，如果该范围内有一个以上的孔，那么就认为不存在单孔情况。

添加内容：如果距离某个孔一定范围内只有一个孔，那么认为该孔也是单孔，这种情况经常出现，比如：同一个net，打了两个孔，但是两个孔之间距离很远，这种情况在初版的rule里面查不出来，可是实际上这种情况也应该认为是单孔。

下面给出以smic 180nm 模拟工艺DRC rule中命名规则为例实现上面功能的DRC rule.

1// added by WeChat Official: ICSkillSharing
2// single contact & via rule for smic18
3
4// design rule for single contact
5single.contact_1{
6 @added by ICSkillSharing
7 @single contact check, single contact not allowed
8 // replace GTO AAO M1O CTO according to your process
9 POLY_M1 = (GTO AND M1O) INTERACT CTO < 2
10 CTO INSIDE POLY_M1
11 AA_M1 = (AAO AND M1O) INTERACT CTO < 2
12 CTO INSIDE AA_M1
13}
14
15single.contact_2{
16 @added by ICSkillSharing
17 @single contact check, contact space > 0.72, try add one more contact
18 // CTO according to your process
19 (CTO OR (EXT CTO <= 0.72 ABUT < 90 SINGULAR REGION)) ENCLOSE CTO < 2
20}
21
22// design rule for single via1
23single.via1_1{
24 @added by ICSkillSharing
25 @single via1 check, single via1 not allowed
26 // replace M1O M2 V1O according to your process
27 M1_M2 = (M1O AND M2) INTERACT V1O < 2
28 V1O INSIDE M1_M2
29}
30
31signal.via1_2{
32 @added by ICSkillSharing
33 @single via1 check, via1 space > 0.78, try add one more via1
34 // replace V1O according to your process
35 (V1O OR (EXT V1O <= 0.78 ABUT < 90 SINGULAR REGION)) ENCLOSE V1O < 2
36}

左右滑动可以查看更多内容哦！

只需要把上面内容添加到DRC rule文件中或者将原本DRC rule文件用INCLUDE语句添加到末尾即可完成单孔检查。

为了保持原来DRC文件的完整性，也可以在Calibre软件中设置相应内容，在运行DRC时直接INCLUDE用户添加的DRC语句。

有一项需要注意，上面DRC语句检查时需要使用Flat模式，否则Pcell中的违反项无法检查出来。

检查结束可以在DRC报告中查看相应的结果，以上内容只针对smic 180nm 模拟工艺，对于其它工艺需要用户根据工艺中层的命名修改文件中相应的内容，具体参考上述DRC语句中的注释内容。

当然，除了使用DRC rule进行检查，也可以在版图中使用搜索工具进行单孔检查，需要通过设置搜索条件实现功能，这种方法不再详细说明，感兴趣的同学自行学习。

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