国内半导体市场，迎来了爆发吗？
此前有外媒爆料称过去一年国内成了全球最大的半导体设备市场，当时有媒体指出，这个数据是值得思考的。在年初的时候美《福布斯》也曾专门发表一篇文章，其中指出半导体就是未来科技的新石油，而中国正在开采一个个油田。其实麻痹还是吹捧我们吧，自研的路，已经开始走了！
中科院去年表示，我们在半导体关键性方面还有35项之多的技术有待攻克；尹志尧前一段时间接受杨澜采访，其中提到我们在设备方面跟先进水平还差两三代，追赶需要十年之久！就以光刻机为例，现在上海微电子能够提供的是90nm，而28nm制程的光刻机能否在今年交付，一直是个谜，毕竟一台先进光刻机所涉及到的供应商、零部件多到难以想象，荷兰运输一台先进光刻机就动用了40辆集装箱，其难度可想而知。但也是在这种基础比较薄弱的情况下，国内越战越勇，缺什么，我们就造什么！
光刻机、EDA、操作系统，爆发了！
这几个月，可以说国内半导体似乎迎来了爆发期，为什么这么说呢，因为国内在很多地方，开始陆陆续续发力了！
芯片的诞生所需要的设备所经过的供应商不计其数，但是在诞生之初还需要设计出来，这里就需要用到了EDA软件，但是此前这方面都是被外部所垄断，而在叫停更新之后，就算是海思有再好的设计能力，没有它，一些都是纸上谈兵，这是芯片之初！
在响应工信部的号召之下，国内11家企业组建了“软件联盟”，通过分工合作，合力共创的方式来攻克该方面的技术壁垒，国产EDA软件可以说已经在路上了！
而鸿蒙系统更是在本月初被推出来，此前要么是安卓要么是苹果，但是当下再说操作系统，那么将会再提到一个，这个就是我们的鸿蒙系统，就在6月12日还有网友爆料称鸿蒙os用户突破了1000万，余承东更是切蛋糕庆祝，不可谓不快！
那么众多网友关注的光刻机呢？中科院在近几天公布一个比较振奋人心的消息，那就是攻克了一项光刻机关键性技术，快速光学邻近效应修正技术，并且通过仿真效果发现，其修正效率更高，而这是90nm及其以下节点集成电路制造的关键技术之一！
其实在此之前，清华大学也实验室研发一种新的光源，其性能更强，更适合被光刻机采用！
国内半导体，外媒说对了？
比尔盖茨去年接受采访的时候就表示，限制芯片出口于华对美没有什么好处，甚至会加速中国芯的崛起。
而ASML总裁在某线上会议上呼吁美应该重新考虑对华的出口限制，因为中国正在投资建设，力求实现自主化，倘若一旦实现，那么非中国企业或将失去这样巨大的市场！
SIA 在一份最新报告中指出，未来十年，国内或将成了全球芯片工厂。全球主要晶圆线有300多条，但是6成以上在中国，且都是覆盖了主要尺寸，这或许就是制造中心转移的开始吧！
国内半导体正在高速发展，但所面临的问题也依然严峻，这条路，才刚刚开始！
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