集微网消息，1月5日，上海新阳发布关于ASML-1400光刻机进展暨签订《合作框架协议》的公告称，公司自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，根据项目进度，计划安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备。后受中美贸易摩擦升级、美国针对我国半导体行业的出口管制措施加强及2020年初以来一直肆虐的新冠疫情影响，公司进口光刻机的程序更加复杂。公司与光刻机供应商、合作方沟通协调设备运输与安装细节，涉及场地条件、物流运输条件等等，没能在规定时间内完成，但与合作方的具体合作细节已签署了《合作框架协议》。
据协议显示，北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司与上海新阳将合作在北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司指定工厂搭建光刻胶验证平台，该平台由ArF光刻机（上海新阳负责提供）和涂胶显影机（北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司负责提供）组成，用于先进光刻胶验证。
双方将在ArF（193nm）干法光刻胶产业化领域采取多样化的模式，开展广泛、深入的合作，包括但不限于：项目合作、团队合作等。合作期限为自2020年12月1日至2023年11月30日。
上海新阳表示，未来公司将采购的用于193nmArF干法光刻胶研发的ASML-1400光刻机放置于合作方指定的地点，双方正在沟通协商光刻机入厂的底座安装及制作事宜，待底座安装完成后，光刻机即可进入合作方进行调试使用。近期新冠疫情在国内有加重反复的趋势，运输物流可能再次受其影响，预计光刻机进入合作方现场的时间是2021年3月底前。（校对/GY）
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
