随着科技的不断发展，现在在国际上的一些重大项目涉及的研究经费都非常的大，其实动不动就超过了甚至几百亿的资金。
此外对于部分最为先进的科研设备的资金投入也很高，不过却有着这样的一个光刻机的研发，却仅仅只用了6亿的经费研发出了国内顶尖的光刻机，这实在是一件非常的让人惊讶的事情。
因为光刻机作为现在技术发展中最复杂的一项尖端设备，不仅仅是它的重量达到了180吨，其中的零部件总共加起来也超过了10万多个，有着极其繁琐的线路分布，其中各个部分的软管连接更是极其复杂。
由此到现在没有一个国家现在能够独立生产出这一机器，甚至是大家已经很熟悉的荷兰的ASML公司，虽然说能够制造这类设备，但是它的90%的零部件还来自于世界各地核心工艺发展极强的国家，而且其中美国又占了绝大部分，而这也是我国由于遭到其阻截会受到巨大影响的一个原因。
而其实我国对于这一设备的研发其实早在1965年就已经有了一个开始，但由于当时它的技术应用并不够广泛，所以没有加大力度在这一方面的研究上。
再加上缺少着一定的经费，所以这方面的进度就慢了下来，并且也由于前期的工业生产中我国大量依赖于国外进口的一些机器设备，所以使得我国对于设备的研发并不够积极。
不过在目前受到了技术垄断这样的情况之下，也使得我国看清了这样的一个局势，又一次对光刻机的研发投入了重视，特别在之中，我国的上海微电子企业在多年来其实都处于的是对于这一设备的研发之中。
并且到目前已经实现了90纳米光刻机的量产，虽然从一定程度上来说与对方的技术还存在着比较大的差距，但其实这对于中低端光刻机技术有着重大的突破，也意味是着我国打断西方垄断局势的开端。
要知道我国这一公司，其实它的研发经费只有6亿元，虽然用了10年的时间才将光科技研发出来，但却展现了他们非常大的努力以及非常惊人的成果，实在太牛了。
好了，今天就为大家介绍到这里，我们下一期再见！
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