中兴事件、华为事件发生后，自主研发芯片就在国内市场中掀起一股新热潮，只是全球各大厂商研发芯片的背后都离不开荷兰ASML公司，几乎全球光刻机市场都被ASML拿下，尤其是高端EUV光刻机市场，数据显示2019年其出货量达到26台 ，创造新纪录，今年预计会交付35台EUV光刻机设备，2021年要交付50台光刻机设备。
一直以来，ASML光刻机都很抢手，毕竟研发芯片对于行业发展，对于国家发展来说都是至关重要的。目前因为美国的原因，ASML光刻机迟迟无法进入中芯国际，这也导致中芯国际在高端芯片的发展道路上的进程延缓。
目前，芯片制程工艺越来越先进，下个月台积电就要开始进行5nm制程工艺量产，同时台积电和三星等厂商也在朝着3nm制程工艺芯片的发展方向迈进。ASML也在加快研发对应工艺精度的光刻机产品，近日，外媒报道称，ASML公司目前正在研发全新一代的EUV光刻机设备，预计2022年开始出货。
据悉，AMSL现在主要对外出售的光刻机设备是NXE:3400C，采取全新的的模块化设计，光刻机的维护和维修都十分方便，而且还能够同时支持7nm和5nm芯片工艺制程。根据现在的信息来看，ASML研发的新一代EUV光刻机设备为EXE:5000系列，依然和卡尔蔡司、IMEC比利时微电子中心等伙伴进行合作，和前代产品相比分辨率能够提升70%，这也意味着此次ASML研发的EUV光刻机设备对应的是2nm制程工艺或者是突破极限，实现更先进的1nm制程工艺。
不得不说，ASML在光刻机设备方面强大的技术实力确实值得点赞，相比较而言，我国光刻机发展水平确实有些落后，目前国内自主研发的光刻机设备能够实现大规模商用的芯片制程工艺最高也只能达到90nm，虽然部分厂商也实现了65nm、28nm制程工艺的突破，但是和ASML光刻机相比差距依然很大。对于此，不少网友也在关心着国产光刻机何时才能崛起？
总之，在光刻机领域，我国厂商还需继续努力，虽然现在面临着“禁运”等种种困境，让中国高端芯片产业未来前景不光明，但是自主研发光刻机的道路上没有什么捷径可走，要依靠自己的努力，一步一个脚印，相信总有一天我国光刻机设备精度能够获得突破，追赶国际厂商的步伐，让自主研发的国产芯片也能在世界上立足。不知道对于此事，你怎么看？
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