上海微电子国产化率破90%，光刻机产业链借势“上桌”

11月13日，A股光刻机概念表现活跃，永新光学、波长光电、福光股份等集体走强。随着国内晶圆厂扩产潮起，光刻设备供需缺口日益扩大，光刻机产业链正被推到市场聚光灯下。

11月13日，A股光刻机概念表现活跃，永新光学、波长光电、福光股份等集体走强。消息面上，佳能新机发售、上海微电子携国产机型亮相进博会，接连点燃市场情绪。

不过，真正支撑这轮行情的是光刻设备日益扩大的供需缺口。国内晶圆厂扩产潮起，中芯国际、华虹宏力、长江存储、长鑫存储等大手笔建厂，设备订单密集释放。

与此同时，以ASML为主的设备厂商即便满负荷运转，仍难以满足下游需求，客户已开始排队锁定2029年甚至2030年的产能。

在此背景下，国内光学元件、精密构件厂商也开始受到市场关注，光刻机产业链行情有望进一步升温。

光刻机集体爆发

11月13日，A股光刻机概念盘中表现活跃。永新光学早盘一度触及涨停，随后回落，收涨3.11%。波长光电收涨6.30%，联合化学、福光股份分别收涨7.34%、4.73%。

近期光刻机海内外消息面，或为行情催化的主要因素。

11月10日，佳能在东京宣布，将于12月上旬发售面向存储和逻辑芯片的KrF扫描式半导体光刻机FPA-6400ES6a。新机搭载新开发的超高加速度载台，通过缩短载台驱动时间，把晶圆产能推高到每小时400片，同时主打业界高水平的套刻精度。

值得一提的是，佳能新品的对准系统新增了可选配光源，或与此轮光学元件涨幅息息相关。

国内方面，在11月5至10日的进博会上，上海微电子装备集团携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800模型亮相，其关键零部件国产化率突破90%，设备有效运行率超92%，也为我国国产替代行情提供了情绪支撑。

事件催化之外，当下晶圆厂扩产与光刻设备供给之间的矛盾其实也早有体现。

需求端，国内晶圆厂的产能建设仍在提速。中芯国际旗下的中芯京城二期自2025年2月披露，项目总投资不低于500亿元，目前处于厂房建设阶段。华虹宏力无锡三期在今年9月正式公告，总投资69.5亿美元，规划月产能5.5万片，预计2027年12月投产。

特色工艺方面，晶合集成的合肥四期工程于今年1月启动，总投资355亿元，规划月产能5.5万片，将于四季度搬入设备；粤芯半导体的四期项目也在广州启动，总投资252亿元，规划月产能4万片数模混合产线。

存储赛道的手笔更大。长江存储三期项目投资207.2亿元，预计年底投产，规划月产能10万片，建成后公司总产能约30万片；长鑫存储今年启动了新一轮扩产，全年计划新增5万至6万片产能，带动设备采购50亿至60亿美元，并筹划在北京建设第二座DRAM工厂。

供给端来看，瓶颈比想象的要强。

光刻机是集成电路制造中技术难度最高的核心设备，全球市场长期由ASML主导。其三季报显示，当季共交付121台，同比增长68%，产能已在高位运转。但管理层坦言，按现有规划，未来两年的供应能力仍难以满足客户需求，已有客户开始接洽2029年甚至2030年的设备交付。

这股短缺正在拖累全球半导体的扩产节奏。据韩媒报道，三星电子与SK海力士正竞相向ASML采购EUV设备，单家投资规模达10万亿至20万亿韩元。由于交货周期较以往翻倍，两家企业不得不提前下单，以锁定有限的产能。

扩产订单流向谁？

在供给短缺的当下，光刻机厂商的业绩可谓是颇为亮眼。

ASML今年前三季度累计实现营收328亿美元，同比增长29.66%，净利润达117.23亿美元，超去年全年水平，同比增长57.09%；其中第三季度单季实现营收128.55亿美元，创下历史新高。

国产光刻机当前尚处于爬坡期，研发与产业化长期由上海微电子牵头。这家2002年成立的国资企业，在干式光刻机上已实现批量交付，90nm机型占据国内市场主要份额。

更先进的浸没式DUV方面，我国2023年成立的上海爱晟纳整合了光刻初创企业宇量昇以及上海微电子的相关团队，被视为国产DUV量产的牵头方。据路透社报道，爱晟纳计划今年下线约5台浸没式扫描光刻机，2027年将年产量提升至20台左右，首批设备拟交付中芯国际、华虹宏力和长鑫存储，工艺覆盖28nm及以上节点。

整机市场尚在爬坡的同时，我国光学元件和精密结构件厂商，已或多或少在这轮扩产中拿到了订单。

在光学元器件领域，茂莱光学凭借其掌握的光刻机照明系统光学器件的超精密加工技术，目前已进入上海微电子供应链，其KrF照明系统光学器件已交付客户验证。

2026年前三季度，公司实现营收7.19亿元，同比增长42.86%；不过受低毛利影响，公司前两季度均实现亏损，并在第三季度实现扭亏，累计净利润同比下降76.41%。半导体作为第一大业务，是拉动公司业绩的核心，在其中报中，半导体业务收入占比达61.26%。

此外，永新光学业务则覆盖光刻和量检测多个环节，公司表示其已切入国产光刻设备的对准系统、照明系统及量检测供应链，目前以试样和小批量为主。

作为一家以显微镜起家的传统企业，公司于2020年从直写光刻光学领域切入，如今光学元器件业务已成为公司第一大业务，其今年中报口径下的业务占比达6成。今年前三季度，公司实现营收8.70亿元，同比增长29.09%，不过受汇兑损益影响，归母净利润同期仅增长2.13%。

光源和光学晶体环节，同样有公司持续放量。波长光电业务涉及直写光刻系统开发照明与成像镜头，并成功开发了国产光刻机配套的平行光源系统。凭借其在工业激光领域较为扎实的技术背景，公司光刻业务迅速铺开。2026年上半年，公司半导体领域产品收入约1800万元，同比增长83%，尽管规模较小，但已形成增长曲线。

针对此轮行情，各家券商近期的观点颇为积极。

华创证券在近期的报告中认为半导体设备正迎来国产替代奇点时刻，下游晶圆厂扩产、政策支持等多个因素，有望推动国产光刻机进入突破窗口期。万联证券则表示上海微电子新发布的光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，在当前行业估值低于近年中枢的情况下，板块颇具吸引力。

光刻机国产化之路

国产光刻机能有今天的成就，并非一日之功。

2002年，光刻机被列入国家863重大科技攻关计划，由科技部和上海市共同推动，上海微电子装备集团在张江成立，中电45所相关团队整体南迁。2008年，极大规模集成电路制造装备及成套工艺专项启动，业内简称02专项；公开信息显示，仅2008年-2012年间投入总额就达350.9亿元，目标直指45至22纳米关键装备的自主化。

2016年，上海微电子90纳米光刻机首台交付用户，并在2018年正式通过验收。这套干式机随后在国内成熟制程市场站稳脚跟。

资本的动作也紧随其后。

2017年底，上海微电子启动了IPO辅导，由中信建投证券担任辅导机构。不过在2024年10月，公司主动撤回了辅导备案，这场酝酿多年的上市计划暂时搁置。与此同时，公司开启资产拆分，将前道光刻机业务注入宇量昇，后道封装光刻设备独立为2025年2月成立的芯上微装，自身则保留EUV等下一代技术研发。

2026年1月，芯上微装先后以2.285亿元和2.52亿元，接手威耀实业和东墅投资两家原上海微电子旗下公司。市场普遍预期其正筹备独立IPO，不过公司方面始终未予证实。

整机平台之外，光刻机赛道的一批新势力也在异军突起。

光源环节的科益虹源，2021年迎来华为旗下哈勃投资入股，持股约4.76%，公司第一大股东是中科院微电子研究所，持股26.6%。公司随后在2023年完成C轮融资，其193纳米ArF准分子激光器已位列国内第一、全球第三。

电子束曝光企业金竟科技2026年9月完成3亿元B轮融资，由康裕资本和涪江资本领投，传化集团、中信金石等跟投。公司依托北大电镜实验室技术，自主研发的Pharos 310电子束曝光机采用无掩模直写，目前已获北京市首台套认证，成为国内首款商业化电子束曝光设备。

双工件台企业华卓精科2025年10月完成2.6亿元融资，长存产业基金和华虹虹芯二期分别认购1亿元和5000万元，投后估值约32亿元，其2020 年申报科创板、2024 年 6 月撤单后，今年再度冲刺，拟募资额从最初的7.35亿元大幅提高到35亿元。

如今，行业缺口尚在，新势力接踵而至，国产光刻机之路或才刚刚开始。

责任编辑 | 张博然