北京
国家知识产权局信息显示，天津吉兆源科技有限公司申请一项名为“一种半导体设备、远程等离子体反应腔室及其制作方法”的专利，公开号CN122991951A，申请日期为2026年9月。
专利摘要显示，本发明公开了一种半导体设备、远程等离子体反应腔室及其制作方法，该远程等离子体反应腔室包括：金属腔基体、绝缘盖板以及第一平面线圈组；金属腔基体的第一表面上设置有环形凹槽，金属腔基体的第二表面上设置有与环形凹槽连通的进气口，金属腔基体的第三表面设置有与环形凹槽连通的出气口，第二表面与第三表面相对设置；绝缘盖板位于金属腔基体的第一表面侧，与环形凹槽形成一环形反应空腔；环形反应空腔用于容纳工艺气体和等离子体；第一平面线圈组位于绝缘盖板远离金属腔基体的一侧。本发明提供了一种半导体设备、远程等离子体反应腔室及其制作方法，便于制作可以降低制作成本，也可以延长反应腔室的使用寿命，还可提高工艺气体的电离效果。
天眼查资料显示，天津吉兆源科技有限公司，成立于2018年，位于天津市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，天津吉兆源科技有限公司参与招投标项目9次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息84条，此外企业还拥有行政许可2个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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