国家知识产权局信息显示,泉意光罩光电科技(济南)有限公司申请一项名为“掩模版图像的周期信息提取方法、电子设备及存储介质”的专利,公开号CN122989603A,申请日期为2026年7月。
专利摘要显示,本申请提供了一种掩模版图像的周期信息提取方法、电子设备及存储介质,其中,该方法包括:获取掩模版图像,根据掩模版图像生成横轴误差位移曲线以及纵轴误差位移曲线,根据横轴误差位移曲线以及纵轴误差位移曲线,判断掩模版图像是否为无规则晶圆的图像,若否,则根据横轴误差位移曲线以及纵轴误差位移曲线,判断掩模版图像是否为芯片阵列的图像,若是,则根据横轴误差位移曲线,确定掩模版图像的横轴周期信息,并根据纵轴误差位移曲线,确定掩模版图像的纵轴周期信息。本申请无需人工介入,弱化图像噪声以及纹理干扰,降低运算量,输出的周期信息可直接用于缺陷检测设备搭建芯片间比对检测。
天眼查资料显示,泉意光罩光电科技(济南)有限公司,成立于2020年,位于济南市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本479531.25万人民币。通过天眼查大数据分析,泉意光罩光电科技(济南)有限公司共对外投资了4家企业,参与招投标项目43次,财产线索方面有商标信息6条,专利信息61条,此外企业还拥有行政许可57个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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