北京
三星电子前副总裁兼知识产权（IP）中心负责人安承浩（Ahn Seung-ho）因泄露公司内部机密——这些机密被用于针对三星的专利侵权诉讼——被上诉法院判处3年监禁。这一刑期不到检察机关所求刑期（7年）的一半。尽管针对技术相关泄密行为的量刑准则已有所加强，但司法实践中仍频现缓刑或减刑判决，这引发了各界对于实施更有效惩罚措施的呼吁。
10月27日，首尔高等法院刑事第3庭（由李承汉法官主审）维持原判，判处这位前副总裁3年监禁。他被控违反《防止不正当竞争及保护商业秘密法》（包括泄露商业秘密等罪名）。法院同时撤销了其保释，下令将其重新收监。
另一名被告——三星显示（Samsung Display）专利申请部门的前组长（姓李）——被判处4年监禁（较一审增加1年），并被处以约5.32亿韩元的罚金。第三名被告——三星电子知识产权中心的前员工（亦姓李）——被判处3年监禁，较一审刑期增加了1年。在一审阶段，检察机关曾分别对安承浩及上述前组长求刑7年，并对该名前员工求刑5年。尽管上诉审中同案被告的刑期有所增加，但三人最终获得的刑期均远低于检察机关的求刑要求。前副总裁安承浩被控从三星电子知识产权中心的一名员工处获取了内部机密的专利分析数据，并将这些数据用于针对三星电子提起的专利侵权诉讼中。法院指出：“针对此类背信行为——即泄露本公司商业秘密、造成损害并借此谋取私利——社会需要保持警惕，敲响警钟。”
2024年，涉及技术泄露犯罪的量刑标准进一步收紧。针对国内工业技术侵权行为，建议最高刑期由6年提高至9年；针对境外工业技术侵权行为，建议最高刑期则由9年提高至15年。若涉及境外“国家核心技术”侵权，且加重情节明显多于减轻情节，建议最高刑期可达18年。
然而在司法实践中，判处缓刑的情况依然相当普遍。根据《2026年司法年鉴》，在去年一审审结的违反《防止不正当竞争法》的案件中，157名被告人里有61人被判处缓刑。这一人数约为被判处实刑的被告人数量（15人）的四倍。同样，在违反《工业技术保护法》的案件中，45名被告人里也有16人获得了缓刑。
法律专家认为，技术泄露类犯罪在举证上的固有难度也会影响量刑。某大型律师事务所的一位律师解释道：“在刑事诉讼中，必须对每一份泄露的文件进行逐一甄别，并证明其确实属于商业秘密。如果庭审过程中最终被认定为‘商业秘密’的数据量减少，必然会影响到量刑的轻重。”此外，还有一些案件在上诉审中获得了减刑。本月22日，首尔高等法院对三星电子前员工全某（音译）作出判决，因其在跳槽至中国半导体企业长鑫存储（CXMT）期间泄露半导体工艺技术，被判处五年有期徒刑。这一刑期较一审判决缩短了两年。上诉法院在维持有罪判决的同时，将被告表现出的悔意及其在相关法律程序中的证词，作为对其减刑的依据。
鉴于各界对现有刑罚力度是否足够仍存疑虑，司法界内部已出现重新审视量刑实践的呼声。本月，在国会法制司法委员会进行的一场质询中，来自“国民力量党”的议员朱镇宇（Joo Jin-woo）指出了针对技术窃取行为量刑过轻的问题；对此，首尔高等法院院长回应称：“我们已经注意到了这一问题，相信在后续探讨量刑实践的过程中，该问题会得到妥善处理。”
此外，也有观点主张在加大惩处力度的同时，还应采取预防措施。律师事务所“Cheong”的管理合伙人郭俊浩（Kwak Jun-ho）强调：“技术窃取行为会损害国家竞争力，因此必须予以严惩。”他补充道：“同时还必须落实预防措施——例如改善技术人员的薪酬待遇和工作条件——以确保他们不会因贪图经济利益而铤而走险，参与此类犯罪。”
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