北京
国家知识产权局信息显示，西安迈斯拓扑科技有限公司取得一项名为“一种靶片制备装置”的专利，授权公告号CN224881396U，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本实用新型公开了一种靶片制备装置，属于放射性靶材制备技术领域，所述制靶装置包括安装座、压片装置、压片固定机构、密封罩和导气装置；压片装置安装于安装座一侧，用于靶片压制；压片固定机构位于压片装置下方，承接待压制靶片；密封罩安装在压片装置压靶端外侧，随压靶端同步运动，压制时与压片固定机构共同形成密封空间；导气装置输入端连密封罩、输出端与内置活性炭柱的负压隔离室连接，将抽取的密封空间内的气体，经负压隔离室内的活性炭柱吸附处理。本实用新型通过在压片装置压靶端外设置局部密封空间配合导气装置，无需大型密封气室，提升放射性气体收集效率，保障操作安全；整体结构紧凑，适配放射性靶材批量制备需求。
天眼查资料显示，西安迈斯拓扑科技有限公司，成立于2019年，位于西安市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本266.4634万人民币。通过天眼查大数据分析，西安迈斯拓扑科技有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目7次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息29条，此外企业还拥有行政许可4个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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