北京
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国家知识产权局信息显示，三星显示有限公司申请一项名为“沉积掩模和用于制造沉积掩模的方法”的专利，公开号CN122959660A，申请日期为2026年4月。
专利摘要显示，本公开涉及沉积掩模和用于制造沉积掩模的方法。沉积掩模包括基础层、保护层和图案层。基础层具有与透射区域对应地限定在基础层中的开口。保护层设置在基础层上，并且具有与透射区域重叠地限定在保护层中的开口。图案层设置在保护层上，并且包括与透射区域重叠的图案网格。图案网格的与保护层相邻的下表面的面积小于图案网格的与下表面相对的上表面的面积。图案层包括从单晶硅和多晶硅中选择的至少一种。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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