北京
国家知识产权局信息显示，武汉颐光科技有限公司申请一项名为“一种显微成像膜厚仪的找焦方法及膜厚仪”的专利，公开号CN122962751A，申请日期为2025年4月。
专利摘要显示，本申请涉及一种显微成像膜厚仪的找焦方法及膜厚仪，膜厚仪中的视场光阑位于理论焦面位置的光学共轭位置；该方法包括：在基于理论焦面位置确定的空间范围内确定多个第一位置，将标样在Z方向上移动至每个第一位置并分别获取标样的第一图像，确定每张第一图像中视场光阑的像与背景在同一目标交界区域内的第一灰度分布数据；在空间范围内确定多个第二位置，将待测样品在Z方向上移动至每个第二位置并分别获取待测样品的第二图像，确定每张第二图像中视场光阑的像与背景在目标交界区域内的第二灰度分布数据；根据第一位置和第二位置，确定焦面补偿值，基于理论焦面位置和焦面补偿值确定待测样品的目标焦面位置。本申请实现高精度找焦，稳定性高。
天眼查资料显示，武汉颐光科技有限公司，成立于2013年，位于武汉市，是一家以从事通用设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉颐光科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目100次，财产线索方面有商标信息12条，专利信息88条，此外企业还拥有行政许可4个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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