北京
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国家知识产权局信息显示，国际商业机器公司申请一项名为“垂直导电结构过渡阻抗优化”的专利，公开号CN122972141A，申请日期为2025年2月。
专利摘要显示，一种印刷电路板(PCB)、用于PCB的垂直导电结构(VeCS)以及制造印刷电路板(PCB)的方法。VeCS包括至少部分地限定在介电基板中的VeCS槽。垂直信号走线定位在VeCS槽的第一侧上，并且垂直参考走线定位在VeCS槽的与垂直信号走线相对的第二侧上。VeCS具有预定阻抗。多个信号地平面定位在距垂直信号走线相应的预定距离处。每个信号地平面限定切口。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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