北京
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国家知识产权局信息显示，通快激光系统半导体制造有限公司申请一项名为“聚焦装置和具有该聚焦装置的EUV辐射产生设备”的专利，公开号CN122962746A，申请日期为2018年5月。
专利摘要显示，本发明涉及一种用于将激光束（3）聚焦在目标区域（5）中的聚焦装置（15），其尤其用于产生EUV辐射（7），其包括：用于扩宽所述激光束（3）的抛物面镜（16），以及用于将经扩宽的激光束（3）聚焦在所述目标区域（5）以内的焦点位置（P2）上的椭圆面镜或双曲面镜（17），以及运动装置（19），所述运动装置构造为使所述椭圆面镜或双曲面镜（17）相对于所述抛物面镜（6）运动和/或与所述抛物面镜（16）共同地运动，以改变在所述目标区域（5）以内的焦点位置（P2）。本发明还涉及一种EUV辐射产生设备（1），其具有这样的聚焦装置（15）。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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