北京
国家知识产权局信息显示，京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“一种背光单元、发光基板及显示装置”的专利，公开号CN122962852A，申请日期为2025年4月。
专利摘要显示，本申请公开了一种背光单元、发光基板及显示装置，用以提高出光均匀性。本申请实施例提供的一种背光单元，背光单元包括：第一基底，第一反射层，发光单元，以及导光层；第一基底包括：相对的第一表面和第二表面，以及位于第一表面的第一凹槽；第一反射层覆盖第一凹槽的底部的至少部分区域；发光单元位于第一凹槽背离第二表面的一侧；导光层包括第一导光层和/或第二导光层；第一导光层位于第二表面或者位于第二表面背离第一表面的一侧，第一导光层在第一基底的正投影与第一凹槽具有交叠；第二导光层位于第一凹槽的底部，第一反射层覆盖至少部分第二导光层。
天眼查资料显示，京东方科技集团股份有限公司，成立于1993年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3704432.8064万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方科技集团股份有限公司共对外投资了73家企业，参与招投标项目375次，财产线索方面有商标信息789条，专利信息69367条，此外企业还拥有行政许可48个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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