北京
国家知识产权局信息显示，图饰科技（深圳）有限公司申请一项名为“基于多尺度特征融合的复杂背景目标前景分离方法及系统”的专利，公开号CN122949200A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本发明公开一种基于多尺度特征融合的复杂背景目标前景分离方法及系统，涉及图像处理领域。该方法对包含复杂背景的待处理图像进行预处理后，提取在不同感受野下分别表征目标边缘、纹理与语义的多尺度特征图；对各多尺度特征图进行尺度对齐与跨尺度融合，并依据各尺度对前景与背景的可分性自适应分配融合权重，得到兼顾浅层细节与深层语义的融合特征；基于融合特征区分前景目标与复杂背景，生成前景概率图并得到初始前景掩膜；对初始前景掩膜进行边缘细化与背景抑制，依据背景抑制强度分离出前景目标。本发明提升了复杂背景下前景分离的边缘准确度与背景抑制彻底程度。
天眼查资料显示，图饰科技（深圳）有限公司，成立于2021年，位于深圳市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本20万人民币。通过天眼查大数据分析，图饰科技（深圳）有限公司专利信息7条，此外企业还拥有行政许可4个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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