快科技10月22日消息,据报道,美光近日在2026年OCP峰会上公布下一代存储技术路线图,覆盖DDR6、LPDDR6、vHBM及G11 NAND四大方向,多项指标较上代实现翻倍级提升。
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DDR6的带宽预计达到DDR5的两倍以上,主要面向高可靠性服务器市场。LPDDR6的能效较LPDDR5提升超过35%,在部分密度配置下提升幅度更大,同时兼顾数据中心与移动设备场景。
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两者均基于美光即将推出的1δ(1-Delta)DRAM工艺节点,该节点号称"全球最先进DRAM",位密度较上代提升约20%,计划2027年下半年进入量产爬坡阶段。
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在HBM领域,美光首次提出垂直HBM(vHBM)概念,将内存直接堆叠在计算芯片上方,实现最短的内存到计算路径。
vHBM将依靠混合铜键合、热感知设计与系统协同优化来提升互连密度和能效,首代产品预计2028年推出,2030年演进至vHBM3。
NAND方面,美光跳过一代直接推出G11,堆叠层数突破400层,采用晶圆级键合技术,位密度约为G9的两倍,I/O速度提升1.5倍,每比特数据传输能耗降低25%以上,同样计划2027年下半年量产。美光总裁Scott DeBoer称其为"全球最先进的NAND"。
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