北京
国家知识产权局信息显示，上海艾普强粒子设备有限公司申请一项名为“一种基于强度响应特征筛选的探测平板坏点识别方法”的专利，公开号CN122948767A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本发明提供一种基于强度响应特征筛选的探测平板坏点识别方法，包括：连续采集多帧的暗场和亮场图像；计算每帧每个像素在不同曝光参数下的净强度；以变化的曝光参数为自变量，以净强度为因变量，拟合得到强度响应斜率；计算并整合得到二维的斜率特征矩阵；在指定尺寸的邻域窗口下，根据二维的斜率特征矩阵并基于三重判定条件，筛选得到坏点；三重判定条件包括极值判定条件、标准差阈值判定条件和均值比例阈值判定条件。本发明的方法通过提取像素强度响应斜率特征，根据包含强度响应斜率特征的多维度判定规则，实现坏点的精准、快速识别，能够识别灰度正常的响应异常坏点，兼顾识别精度、实时处理速度与设备通用性。
天眼查资料显示，上海艾普强粒子设备有限公司，成立于2011年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本17960.3333万人民币。通过天眼查大数据分析，上海艾普强粒子设备有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目64次，财产线索方面有商标信息22条，专利信息147条，此外企业还拥有行政许可50个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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