北京
国家知识产权局信息显示，博莫威（嘉兴）新技术有限公司申请一项名为“清洁片材及其制备方法”的专利，公开号CN122952912A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本发明公开了清洁片材及其制备工艺。该清洁片材为四层结构：硅片基底、增粘层、由超高分子量聚合物构成的清洁功能层以及保护膜层。本发明采用精密旋转涂布方式，配合水平仪校准涂布基座平整度和分阶段升温干燥工艺，将清洁功能层直接涂布于硅片上，获得超高平整度和均匀性的清洁表面。清洁功能层采用分子量400000‑3000000Da的聚合物，形成交联点间分子量为1000‑100000Da的耐热弹性三维网络，在100‑200℃下剥离力稳定，无残胶、无小分子析出。本产品可高效清除半导体PVD、ALD、RIE等设备中工艺基座上的纳米至亚微米级污染颗粒，将背氦报警等典型故障的修复时间从数天缩短至4小时内，显著提升生产效率和产品良率。
天眼查资料显示，博莫威（嘉兴）新技术有限公司，成立于2021年，位于嘉兴市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本600万人民币。通过天眼查大数据分析，博莫威（嘉兴）新技术有限公司专利信息2条。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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