北京
国家知识产权局信息显示，广东谷东智能科技有限公司申请一项名为“一种改善光致取向材料附着性能及消除偏振体全息波导杂散光的基底预处理方法及预处理基底与偏振体全息光波导器件”的专利，公开号CN122923143A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本申请涉及光学显示器件制备领域，具体公开了一种改善光致取向材料附着性能及消除偏振体全息波导杂散光的基底预处理方法及预处理基底与偏振体全息光波导器件。所述基底预处理方法包括以下步骤：S1.基底清洗步骤；S2.复合活化步骤；S3.偶联涂布步骤；S4.阶梯固化步骤。本申请通过低损活化、环氧基偶联界面构建以及精准温控的三段阶梯式固化的协同配合，有效克服了微孔、界面应力集中及分子取向畸变等底层物理缺陷，使得最终器件兼具0级抗老化附着力与优异的光学成像品质，完全满足偏振体全息波导的量产标准。
天眼查资料显示，广东谷东智能科技有限公司，成立于2019年，位于广州市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本584.7954万人民币。通过天眼查大数据分析，广东谷东智能科技有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目8次，财产线索方面有商标信息6条，专利信息227条，此外企业还拥有行政许可8个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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