北京
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国家知识产权局信息显示，V荷兰私营有限责任公司申请一项名为“一种显示设备及代码审查方法”的专利，公开号CN122933956A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本申请提供一种显示设备及代码审查方法。所述方法可以获取代码仓库中发生变更的源代码文件，确定源代码文件与其依赖文件之间的映射关系，并基于映射关系构建包含依赖上下文的审查提示词，将审查提示词输入语言模型进行审查，以得到缺陷问题集合。然后提取缺陷问题集合中每个缺陷问题的关键特征并生成对应的问题指纹，通过与历史问题指纹集合对比，将缺陷问题集合划分为新增问题集合、持续问题集合和已修复问题集合，并控制显示器显示上述分类结果。所述方法通过引入依赖上下文感知机制和基于指纹的跨轮次对比机制，提升代码审查的准确性，并可实现缺陷问题的分类管理与全生命周期跟踪。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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