北京
国家知识产权局信息显示，浙江华炬新材料科技有限公司申请一项名为“一种原位界面键合石墨烯超细铜键合丝及其制备方法”的专利，公开号CN122913504A，申请日期为2026年8月。
专利摘要显示，本发明公开了一种原位界面键合石墨烯超细铜键合丝及其制备方法，包括1）石墨烯原位羟基化改性与分散；2）真空低温除气混粉；3）冷等静压成型；4）低温真空预烧；5）梯度热等静压致密化；6）中低温热挤压；7）多道次控性拉拔；8）阶梯低温退火。本发明中，通过对石墨烯进行羟基化处理以及纳米碳点修饰处理，并与复合铜纳米片、铜粉进行混粉，复合铜纳米片与石墨烯构建有序层间嵌插堆叠原位键合结构，依托 C‑C、Cu‑O‑C多重化学键合与层间机械嵌锁作用强化界面结合、优化载荷传递、钝化裂纹扩展，同时规整的多级导电网络大幅降低界面接触电阻与晶界电阻，实现铜键合丝抗拉强度与导电率同步提升。
天眼查资料显示，浙江华炬新材料科技有限公司，成立于2026年，位于绍兴市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江华炬新材料科技有限公司专利信息1条。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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