北京
国家知识产权局信息显示，上海至纯洁净系统科技股份有限公司、至微半导体（上海）有限公司取得一项名为“一种晶圆清洗设备的多级加热系统”的专利，授权公告号CN224863334U，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本实用新型涉及晶圆清洗技术领域，具体涉及一种晶圆清洗设备的多级加热系统，包括多个设置在清洗模块中的四级加热模块；清洗模块包括多个清洗腔室，清洗腔室层叠设置形成塔状结构；四级加热模块分别设置在塔状结构的每一层中，对每一层的药液管道进行加热。针对现有技术中的晶圆清洗供液模块在对药液进行加温后，管道输送距离长、温度波动性大的问题，本方案中在晶圆清洗设备的塔状结构中，针对每一层分别集成了小型化的四级加热模块，来对清洗机台中的药液管道进行维温，避免了长距离的药液管道输送可能导致的温度不稳定的问题。
天眼查资料显示，上海至纯洁净系统科技股份有限公司，成立于2000年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本38296.425万人民币。通过天眼查大数据分析，上海至纯洁净系统科技股份有限公司共对外投资了45家企业，参与招投标项目79次，财产线索方面有商标信息74条，专利信息350条，此外企业还拥有行政许可57个。
至微半导体（上海）有限公司，成立于2017年，位于上海市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本53144万人民币。通过天眼查大数据分析，至微半导体（上海）有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目38次，财产线索方面有商标信息5条，专利信息335条，此外企业还拥有行政许可2个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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