北京
国家知识产权局信息显示，杭州硫通光子科技有限公司申请一项名为“一种基于单系统双光束架构的3D光刻系统及方法”的专利，公开号CN122902175A，申请日期为2026年9月。
专利摘要显示，本申请涉及微纳加工及增材制造技术领域，更具体地，涉及一种基于单系统双光束架构的3D光刻系统及方法。包括飞秒激光器、衰减器、第一4f系统、扩束匀化器、二维振镜、第二4f系统、半波片、PBS棱镜、振幅型液晶空间光调制器、第一切换透镜、分光棱镜、第二切换透镜、CCD相机、物镜以及位移台；本发明的主光路与振幅型液晶空间光调制器的调制光共享同一光源、同一物镜、同一光路骨架，两束光在PBS棱镜分束后，经不同路径在物镜入瞳处重新合束，共用后续所有光学元件，避免了光轴对准难、焦面匹配难等问题，降低了系统复杂度，也提高了系统运行的稳定性。
天眼查资料显示，杭州硫通光子科技有限公司，成立于2024年，位于杭州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本360万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州硫通光子科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目5次，专利信息22条。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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