北京
国家知识产权局信息显示，华海清科股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光的承载头、压力控制方法及抛光设备”的专利，公开号CN122896026A，申请日期为2026年9月。
专利摘要显示，本申请公开了一种化学机械抛光的承载头、压力控制方法及抛光设备，属于晶圆加工技术领域。该承载头的气膜组件包括刚性承载盘和气膜，承载盘朝向气膜的底面设有多个沿径向分布的刚性分隔壁，气膜的内底面设有位置相匹配的环形凹槽，二者凹凸配合，在承载盘与气膜之间形成多个径向压力腔室；未抛光时气膜与分隔壁的底端之间留有间隙，抛光加压时分隔壁滑入凹槽并压紧，使相邻压力腔室之间抵接密封、相互隔离，密封比压随腔室气压自适应增大。由此，分区密封功能由刚性承载盘承担，气膜仅传递抛光压力，气膜结构简化、耗材成本降低、使用寿命延长，各分区抛光压力长期独立可控。
天眼查资料显示，华海清科股份有限公司，成立于2013年，位于天津市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本35365.1991万人民币。通过天眼查大数据分析，华海清科股份有限公司共对外投资了12家企业，参与招投标项目330次，财产线索方面有商标信息67条，专利信息880条，此外企业还拥有行政许可38个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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